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      磁控濺射膜厚均勻性設計方法

      作者: 來源: 日期:2020/11/9 10:48:57 人氣:1221

      磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一,磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、
      抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜,在國防和國民經濟生產中的作用和地位日益強大。
      鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,沉積速率,靶材利用率等方面的問題是實際生產中十分關注的。


      解決這些實際問題的方法是對涉及濺射沉積過程的全部因素進行整體的優化設計,建立一個濺射鍍膜的綜合設計系統。
      薄膜厚度均勻性是檢驗濺射沉積過程的最重要參數之一,因此對膜厚均勻性綜合設計的研究具有重要的理論和應用價值。


      磁控濺射技術發展過程中各項技術的突破一般集中在等離子體的產生以及對等離子體進行的控制等方面。

      通過對電磁場、溫度場和空間不同種類粒子分布參數的控制,使膜層質量和屬性滿足各行業的要求。


      膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態息息相關,如靶的刻蝕狀態,靶的電磁場設計等,
      因此,為保證膜厚均勻性,國外的薄膜制備公司或鍍膜設備制造公司都有各自的關于鍍膜設備(包括核心部件“靶”)的整套設計方案。


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