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什么是PVD 技術

作者: 來源: 日期:2020/12/15 11:04:28 人氣:1010

什么是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。

它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。


PVD基本方法:真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

PVD 技術是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術,它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下,等離子場下的輝光反應,亦是一個高凈化處理過程;鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主,鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的,使得PVD 產品本身具備純凈的環保性能。

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